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常见镀膜材料

文章来源:admin    时间:2016-01-19

二氧化错(gao)
化学符号:Zr〇2 纯度:99.9%
熔点:2700°C 密度:5.5g/cm3
透明波段:0.25〜9K 折射率:n=1.95〜2.05
规格:0 30、10mm或
颗粒
外观:白色或灰色
性能:放气量小,适于电子枪蒸发,膜层致密, 牢固,抗化学腐蚀。用于多层膜。
五氧化三钛
化学符号:Ti3〇5 纯度:99.9%
熔点:1750C 密度:4.57g/cm3
透明波段:0.4〜12K 折射率:n=2.2〜2.3
规格:0 10mm或颗粒 外观:紫色
性能:充氧蒸发易操作,成膜致密。不充氧蒸发 可得彩色膜,用于人工宝石制作。
氧化铝
化学符号:AI2O3 纯度:99.9%
熔点:2045C 密度:4g/cm3
透明波段:0.17〜9K 折射率:n=1.6〜1.65
规 格:O 10mm
或颗粒
外观:白色
性能:适于电子枪蒸发,形成光滑致密膜层, 抗化学腐蚀。
一氧化钛
化学符号:TiO 纯度:99.9%
熔点:1750C 密度:4.93g/cm3
透明波段:0.4〜12K 折射率:n〜2.2〜2.3
规格:
0 30、10mm或颗粒
外观:黄色
性能:充氧蒸发易操作,成膜致密。不充氧蒸 发可得彩色膜,用于人工宝石制作。
二氧化硅
化学符号:SiO2 纯度:99.99%
熔点:1610C 密度:2.2g/cm3
透明波段:
0.2 〜94(30 〜100P)
折射率:n=1.45
规格:〇10mm或颗粒 外观:白色
性能:容易蒸发,放气量小。
氧化锆氧化钽混合物
化学符号:ZrO2+Ta2O5 (重量比7: 3) 纯度:99.99%
熔点: 密度:
透明波段: 折射率:n^2.1
规 格:O 10mm 外观:白色
性能:折射率比ZrO2高,成膜致密。抗化学腐 蚀。
注:可按客户要求配制不同比例混合物。
氧化锆氧化铝混合物
化学符号:ZrO2+AkO3 (重量比4: 6) 纯度:99.9%
熔点: 密度:
透明波段: 折射率:n & 1.7
规 格:O 10_ 外观:白色
性能:成膜抗化学腐蚀。
注:可按客户要求配制不同比例混合物。

氧化钛氧化铌混合物
化学符号:Ti〇2+Nb2〇 纯度:99.99%
(重量比7: 3)
熔点: 密度:
透明波段: 折射率:
规 格:O 10mm 外观:白色或灰色
性能:适于电子枪蒸发,易操作。膜结构比单
一组份好。
注:可按客户要求配制不同比例混合物。
二氧化钸


化学符号:Ce〇2 纯度:99.9% 99.99%
熔点:2600°C 密度:7.3g/cm3
透明波段:0.46〜11K 折射率:n^2.2
规格:0 10_ 外观:浅棕色
性能:适于电子枪蒸发。
氧化钆
化学符号:Gd2〇3 纯度:99.9%
熔点:2310C 密度:7.4g/cm3
透明波段:0.22〜9K 折射率:1.7〜1.8
规格:0 10_ 外观:白色
性能:适于电子枪蒸发、蒸发时易失氧。膜层
光滑牢固。
氧化锌
化学符号:ZnO 纯度:99.9%
熔点:1975C 密度:5.6 g/cm3
透明波段:0.4〜16K 折射率:n^2
规格:0 10_ 外观:白色
性能:可用于制作导电 膜。
注:可按用户要求配制ZnO+Al2〇33%混合物。
氧化铬
化学符号:Cn〇3 纯度:99.9%
熔点:2435C 密度:5.2 g/cm3
透明波段: 折射率:n=2.4
规格:0 10_ 外观:绿色
性能:适于电子枪蒸发。
氧化钒
化学符号:V2〇5 纯度:99.9%
熔点:690C 密度:3.36 g/cm3
透明波段:0.56〜7K 折射率:n^2.3
规格:颗粒 外观:淡黄色
性能:高折射率材料, 主要用于膜层搭配用,
价格比较高。
氧化铝氧化钛混合物
化学符号:AbO3 + TiO2
(重量比9: 1)
纯度:99.9%
熔点: 密度:
透明波段: 折射率:n=1.7
规 格:O 10_ 外观:白色
性能:折射率比氧化铝高,易蒸发。
注:可按客户要求配制不同比例混合物。
二氧化钕
化学符号:Nd2O3 纯度:99.9%
熔点:2272C 密度:7.2g/cm3
透明波段:0.4〜2P 折射率:n=1.8
规格:0 10_ 外观:浅紫色
性能:适于电子枪蒸发。
氧化铋
化学符号:Bi2O3 纯度:99.9%
熔点:820C 密度:8.9 g/cm3
透明波段:0.4P〜 折射率:n^2.5
规格:0 10_ 外观:黄色
性能:用于热蒸发或溅射较好。蒸汽有毒。
氧化铜
化学符号:CuO 纯度:99.9%
熔点:1326C 密度:6.3 g/cm3
透明波段: 折射率:n=2.6
规格:0 10_ 外观:棕黑色
性能:适于电子枪和热蒸发。
氧化锡氧化铟混合物
化学符号:
SnO2+ImO55%
纯度:绝对密度7.34 注意配比方式
熔点:1127C 密度:6.9 g/cm3
透明波段:0.3〜9P 折射率:n^2
规格:0 10_ 外观:灰黄色
性能:用于镀制透明导电膜。

氧化锌氧化铝混合物
化学符号:ZnO+Ak〇3 纯度:
熔点: 密度:
透明波段: 折射率:
规格: 外观:
性能:用于制作导电月 是不能直接算 。混合材料纯度的计算 :材料密度,看配比的组成
二钛酸镨
化学符号:Pr (Ti〇3) 2 纯度:99.9%
熔点:
2200。。〜2300。。
密度:
透明波段:0.3〜9P 折射率:n^2.2
规 格:1〜5_ 或颗粒 外观:深灰色
性能:用于低温基电镀多层膜。和磁控材料不 一样
氟化钇
化学符号:YF3 纯度:99.99%
熔点:1387。 密度:4.01 g/cm3
透明波段:0.2〜14P 折射率:n^1.5
规格:颗粒 外观:白色
性能:红外波段的优良材料。
氟化钕
化学符号:NdF3 纯度:99.9%
熔点:1410。 密度:6.5 g/cm;
透明波段:0.25P〜 折射率:n=1.6
规格:0 10_ 外观:浅紫色
性能:适于电子枪或热蒸发,性能稳定。

钛酸锶
化学符号:SrTiO3 纯度:
熔点: 密度:
透明波段: 折射率:
规格: 外观:
性能:做成溅射靶材。 比较少用

氟化镱
化学符号:YbF3 纯度:99.99%
熔点:1157。 密度:8.17 g/cm;
透明波段:0.22〜12K 折射率:1.52
规格:颗粒 外观:白色
性能:透过波段宽, 红外波段的优良材料。

氟化钐
化学符号:SnF3 纯度:99.99%
熔点:1306。 密度:
透明波段: 折射率:
规格:颗粒 外观:
性能:此材料基本不用于镀膜,不好搭配
氟化镁
化学符号:MgF2 纯度:99.9%
熔点:1266。 密度:4.2 g/cm;
透明波段:0.25〜9K 折射率:n ^ 1.38
规格:0 10_ 外观:白色
性能:适于电子枪或热蒸发
注:用途广,主要用面板外壳镀膜,硬度高

氟化锶
化学符号:SrF3 纯度:99.9%
熔点:1450。 密度:4.24 g/cm;
透明波段:0.3〜5P 折射率:n=1.48
规格:颗粒 外观:浅黄色

氟化钾
化学符号:KF 纯度:99.95%
熔点:880。 密度:2.48g/cm3
透明波段:0.2P〜 折射率:n=1.35
规格:颗粒 外观:白色
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